[1] Terao N et al 1973 Acad. Sci. Paris B 277 595

[2] Terada S et al 1989 J. Cryst. Growth 94 567

[3] Bryl R and Altman M S 2003 J. Appl. Phys. 94
4670

[4] Pan Z et al 2000 Adv. Mater. 12 1186

[5] Zhang H Z, Wang R M and Zhu Y W 2004 J. Appl. Phys.
96 624

[6] \v{Zumer M et al 2004 Appl. Phys. Lett. 84
3615

[7] Geis M W, Twichell J C and Lyszczarz T M 1996 J.
Vac. Sci. Technol. B 14 2060

[8] Silva S R P, Amaratunga G A J and Okano K 1999 J.
Vac. Sci. Technol. B 17 557

[9] J. Robertson 1999 J. Vac. Sci. Technol. B 17
659

[10] Saito Y et al 1998 Appl. Phys. A: Mater. Sci.
Process. 67 95

[11] Caol A et al 2002 Appl. Phys. A: Mater. Sci.
Process. 74 415

[12] Powers M J et al 1995 Appl. Phys. Lett. 67
3912

[13] Lee C J et al 2002 Appl. Phys. Lett. 81 3648

[14] Wang T et al 2008 Appl. Surf. Sci. 254 6817

[15] Zhang G A et al 2008 Appl. Surf. Sci. 254
5012

[16] Nosakaa T et al 1999 Thin Solid Films 348 8

[17] Vaz F et al 2005 Surf. Coat. Technol. 191 317

[18] Pierson J F 2002 Vacuum 66 59

[19] Fowler R H and Nordheim L W 1928 Proc. R. Soc.
London A 119 173

[20] Li R S et al 2008 Appl. Surf. Sci. 255 2787

[21] Kim B H et al 2003 Appl. Phys. Lett. 83 539

[22] Lim S C et al 1999 Appl. Phys. Lett. 75 1179

[23] Yong Z Z et al 2007 Chin. Phys. Lett. 24 233